赫莲娜菁华修护滋养面膜

赫莲娜菁华修护滋养面膜

英文名称:HELENA RUBINSTEIN PRODIGY MASK

所属品牌:赫莲娜

所属类别:面膜

安全星级:
  • 安全成分
  • 较安全成分
  • 潜在风险成分

含有香精:1种(香精)

含有防腐剂:4种(苯氧乙醇、氯苯甘醚、苯甲酸、山梨酸)

含有风险成分:1种(香精)

含有孕妇慎用:0种

全成分信息(点击成分名称,查看详情)
名称作用风险活性致痘防晒
溶剂1
苯氧乙醇防腐剂
抗菌剂
2-4
生物糖 胶-1保湿剂
舒缓抗敏
1活性成分
甘油 保湿剂
溶剂
1-2
变性乙醇溶剂
抗菌剂
收敛剂
4
阿拉伯胶树胶 黏度控制
粘合剂
2-3活性成分
黄原胶增稠剂
乳化稳定剂
1
云母 着色剂2
CI 77891着色剂1-3
泛醇保湿剂
柔润剂
抗氧化剂
皮肤调理剂
1活性成分
EDTA 二钠螯合剂1
氯苯甘醚 防腐剂3
香精香精香料8
辛基十二醇乳化剂
溶剂
增稠剂
1
胆甾醇柔润剂
乳化剂
黏度控制
1
丁羟甲苯抗菌剂
抗油脂氧化剂
3
1,2-戊二醇 保湿剂
增溶剂
抗菌剂
1
水解大米蛋白保湿剂
抗静电
皮肤调理剂
头发调理剂
1活性成分
欧洲水青冈芽提取物抗氧化剂
保湿剂
1活性成分
苯甲酸防腐剂32
山梨酸防腐剂2
蜂蜜柔润剂
保湿剂
增稠剂
1活性成分
假叶树根提取物抗炎剂
保湿剂
皮肤调理剂
1活性成分
咖啡因抗氧化剂
防脱养发
健美功效成分
1活性成分
羟棕榈酰二氢鞘氨醇抗氧化剂
保湿剂
1活性成分

抗氧化成分:4种

抗衰成分:3种

保湿成分:9种

舒敏成分:1种

名称作用风险活性致痘
咖啡因抗氧化剂
防脱养发
健美功效成分
1活性成分
假叶树根提取物抗炎剂
保湿剂
皮肤调理剂
1活性成分
1,2-戊二醇保湿剂
增溶剂
抗菌剂
1
甘油保湿剂
溶剂
1-2
生物糖 胶-1保湿剂
舒缓抗敏
1活性成分
蜂蜜柔润剂
保湿剂
增稠剂
1活性成分
水解大米蛋白保湿剂
抗静电
皮肤调理剂
头发调理剂
1活性成分
欧洲水青冈芽提取物抗氧化剂
保湿剂
1活性成分
泛醇保湿剂
柔润剂
抗氧化剂
皮肤调理剂
1活性成分
羟棕榈酰二氢鞘氨醇抗氧化剂
保湿剂
1活性成分

药监局批准/备案文号:国妆备进字J20170577

生产国/地区:法国

生产企业:赫莲娜

备案日期: 2017-01-11